La technique de dépôt par couches atomique (ALD) permet de synthétiser des couches minces d’épaisseur régulière et de composition uniforme et contrôlée sur des structures à géométries complexes.
Thomas Proslier, du Département des accélérateurs, de cryogénie et de magnétisme, présentera les principes de cette méthode de dépôt, ses avantages et ses limites ainsi que certaines applications.
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Dernière mise à jour : 21-11-2024
